그래핀랩, 차세대 EUV 펠리클 독자 기술로 반도체 시장 선도 가속

차세대 반도체 핵심 소재 개발 기업 그래핀랩이 EUV 펠리클 독자 기술을 앞세워 글로벌 반도체 시장 공략에 속도를 내고 있다. 그래핀랩은 그래핀 직성장 기술을 기반으로 EUV 펠리클 투과율 90% 이상을 확보하며, 미세 공정 경쟁이 치열한 반도체 산업에서 주목받는 소재 기업으로 부상했다.

그래핀랩이 개발한 EUV 펠리클은 차세대 반도체 노광 공정의 핵심 부품이다. EUV 공정에서 펠리클은 마스크를 오염으로부터 보호하면서도 높은 투과율을 유지해야 하는 고난도 기술 영역이다. 그래핀랩은 자체 직성장 그래핀 기술을 적용해 기존 한계를 넘어서는 성과를 냈으며, 이는 반도체 생산 효율과 수율 향상에 직접적인 영향을 미칠 수 있는 기술로 평가된다.

회사는 지난 1년간 연구개발에 집중하며 관련 핵심 특허 출원을 준비하는 한편, EUV 펠리클 제조를 위한 신규 설비 도입도 마무리했다. 현재는 실제 반도체 양산 환경에 적용 가능한 수준의 검증 단계에 진입해 상용화 가능성을 높이고 있다. 업계에서는 해당 기술이 양산 공정에 안착할 경우, EUV 공정 안정성과 비용 효율성 개선에 기여할 것으로 보고 있다.

그래핀랩은 기술력에만 머물지 않고 시장 확대에도 적극 나서고 있다. 최근에는 국내외 유수 고객사와 EUV 펠리클 공동 개발을 추진하며, 실사용 환경에 최적화된 제품 완성을 목표로 협력을 강화하고 있다. 회사의 그래핀 소재 기술과 고객사의 공정 노하우가 결합될 경우, 차세대 EUV 펠리클 상용화 시점이 한층 앞당겨질 것으로 기대된다.

권용덕 그래핀랩 대표이사는 “그래핀 기반 EUV 펠리클 기술은 반도체 공정 효율과 성능 향상에 필수적인 솔루션”이라며 “기술 상용화를 앞당겨 글로벌 시장에서 확실한 경쟁 우위를 확보하겠다”고 말했다.

해외 시장 공략도 본격화되고 있다. 그래핀랩은 최근 중국 강소성 계동시와 업무협약(MOU)을 체결하고, 현지 사무소 설립을 추진 중이다. 중국 내 사무소는 현지 맞춤형 연구개발과 그래핀 기술 홍보의 거점으로 활용될 예정이다. 이는 기술 글로벌 확산과 함께 성장 잠재력이 큰 중국 반도체 시장을 선점하기 위한 전략적 행보로 풀이된다.

그래핀랩은 지속적인 연구개발과 글로벌 협력을 통해 기술 경쟁력을 강화하고, 반도체 소재 산업에서 장기적인 성장 기반을 구축해 나간다는 계획이다