한국사회적경제신문 KSEN 황인규 기자 | 특허청은 6월 10일~13일까지 한-중 지재권 협력 및 중국 진출기업의 지재권 보호 강화를 위해 ‘한-중 지식재산 교류회’를 운영한다고 밝혔다.
이번 교류회는 중국 내에서 지재권 업무를 담당하고 있는 중앙 및 지방 공무원을 국내로 초청하여, 양국의 지재권 보호 관련 법・제도 개정사항 등의 주요 내용을 공유하고 중국 진출기업의 지재권 애로사항을 해소하기 위해 마련됐다.
중국 방문단은 ▲지재권 보호 제도 공유를 위한 특허청 방문 간담회 ▲중국 진출기업의 현지 지재권 애로사항 청취를 위한 기업현장 방문 ▲중국 진출(예정)기업 대상 지재권 보호 세미나 참석 등의 일정을 수행한다.
중국 진출(예정)기업 지재권 보호 세미나에서는 중국 지재권 제도 소개 및 중국 진출 시 유의사항에 대한 발표와 더불어 우리기업의 질의사항에 대한 중국 방문단의 구체적인 답변이 진행될 예정이다.
특허청 신상곤 산업재산보호협력국장은 “이번 초청 교류회를 통해 한-중 양국의 지재권 보호 협력 기반이 더욱 강화되기를 바란다”면서 “앞으로도 해외 진출기업의 현지 지재권 애로사항을 해소할 수 있도록 지원을 강화해 나갈 것”이라고 밝혔다.
한편, 중국 진출(예정)기업 지재권 보호 세미나 참여를 희망하는 기업은 온라인으로 참가 신청이 가능하다.
